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触控屏光阻涂布技术发展趋势

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  • 更新日期:2014-08-07 15:36
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详细介绍
 光阻,亦称为光阻剂,主要由树脂,感光剂,溶剂三种成分混合而成,是一个用在许多工业制程上的光敏材料,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。光阻有两种,正光阻和负光阻。正光阻:光阻本身难溶于显影液,曝光后解离成小分子,形成容易溶于显影液的结构,一般用于ITOMETAL线路光刻剂胶;负光阻:曝光后形成不容易容易显影液的结构,一般用于BMPIITO架桥隔绝层)、OC(保护层)。

随着触控屏基板大型化其涂布技术需求与光阻的有效使用率也需跟着改善及提升。大尺寸基板光阻涂布所面临的主要课题在于:

1、  维持光阻厚度的均匀性;

2、  降低涂布制程中光阻的使用量以减少生产成本;

3、  如何维持或增加基板的生产率;

 
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